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    高真空PECVD系統

    高真空PECVD系統

    高真空PECVD系統

    諾泰高真空PECVD系統是由管式爐,真空系統、供氣系統、射頻電源系統等組成。系統主要應用于金屬薄膜,陶瓷薄膜等,復合薄膜,石墨烯等生長。

    產品概述:
       諾泰高真空PECVD系統是由管式爐,真空系統、供氣系統、射頻電源系統等組成。系統主要應用于金屬薄膜,陶瓷薄膜等,復合薄膜,石墨烯等生長。PECVD系統增加功能容易,可擴展等離子清洗刻蝕等功能,PECVD系統薄膜沉積速率高、均勻性好、一致性和穩定性高等優點。

    高真空PECVD系統主要特點

    1.通過射頻電源把石英真空室內的氣體變為離子態。

    2.PECVD比普通CVD進行化學氣相沉積所需的溫度更低。

    3.可以通過射頻電源的頻率來控制所沉積薄膜的應力大小。

    4.PECVD比普通CVD進行化學氣相沉積速率高、均勻性好、一致性和穩定性高。

    5.廣泛應用于:各種薄膜的生長,如:SiOx, SiNx, SiOxNy 和無定型硅(a-Si:H) 等。

    技術參數:

    產品名稱

    高真空PECVD系統

    滑軌管式爐部分

    產品型號

    PT-T1200

    爐管尺寸

    Φ50mmX1600mm

    爐管材質

    石英管

    加熱區

    300mm

    工作溫度

    1100℃

    最高溫度

    1200℃

    溫控方式

    K型熱電偶

    控制方式

    觸屏控制,帶獨立搖臂,可以根據實際使用需求,調節溫控屏的角度,使用更方便

    控溫精度

    ±1℃

    溫控保護

    具有超溫和斷偶保護功能

    升溫速率

    0-20ºC/min  ,建議10ºC/min

    加熱元件

    含鉬電阻絲

    工作電壓

    AC 220V 單相 50HZ (電路電壓用戶可選擇定制)

    加熱功率

    3KW

    爐膛材料

    氧化鋁多晶纖維

    爐體結構

    爐體帶滑軌,可實現快速升溫和降溫

    法蘭接頭

    標配配有兩個不銹鋼真空法蘭,已安裝機械壓力表和不銹鋼截止閥

    密封系統

    該爐爐管與法蘭之間采用硅膠O型圈擠壓密封、撤卸方便、可重復撤卸,氣密性好。

    殼體

    不銹鋼殼體

    選配

    輔助降溫風扇

                         真空系統部分

    名稱

    真空系統

    主要參數

    1.采用進口安捷倫高真空分子泵組,極限真空度可達10-3pa

    2.KF25快接,不銹鋼波紋管,手動擋板閥與法蘭,真空泵相連;

    3.數字式真空顯示,其測量范圍為5×10-5- 1500mbar,測量精度高高

    氣路系統部分

    名稱

    四路質量流量計

    主要參數

    四通道精密質量流量計:觸屏控制,數字顯示,自動控制。流量范圍流量范圍:

    1.MFC 1-MFC4:0-1000sccm可調

    2.一個混氣罐

    3.4個不銹鋼針閥安裝在供氣系統的左側,可手動控制4種氣體;

    4.進出氣口:3進1出

    流量控制:手動旋轉式調節

    連接方式:雙卡套連接

    等離子電源部分

    名稱

    500W等離子電源

    功率范圍

    0-500W(連續可調)

    工作頻率

    13.56MHZ+0.005%

    工作模式

    連續輸出

    射頻輸出阻抗接口

    N-type,female(50Ω)

    功率穩定度

    ≤2W

    最大反射功率

    70W

    電源保護設置

    DC過流保護,功放過溫保護,反射功率保護

    供電電壓/頻率

    單相交流(187V-253V)50-60HZ

    冷卻方式

    風冷

    整機尺寸

    88X483X550 MM

    整機重量

    13.5KG

    認證

    ISO認證、CE認證

    售后服務

    質保一年,終身保修(耗材類:高溫密封圈、爐管、加熱元件等不屬于質保范圍)

    高真空pecvd系統
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