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    PECVD實驗室加熱管式爐

    PECVD實驗室加熱管式爐

    PECVD實驗室加熱管式爐

    PECVD實驗室加熱管式爐可達到1600℃,精密溫度控制器將提供30段加熱和冷卻步驟,精度為+/- 1°C。

    產品概述:
    PECVD實驗室加熱管式爐可達到1600℃,精密溫度控制器將提供30段加熱和冷卻步驟,精度為+/- 1°C。該爐系統還包括一個耐腐蝕的皮拉尼電容膜片式壓力計,可對腐蝕性氣體進行真空測量。

    產品應用:
    PECVD實驗室加熱管式爐通過微波或射頻使含氣體電離的薄膜形成氣孔,在局部等離子體中形成,且等離子體化學活性很強,易于反應,在所希望的薄膜上沉淀出所需的薄膜,因此被廣泛使用高質量的SiO2薄膜,金剛石薄膜,硬質薄膜,光學薄膜和CNT等。


    產品特點:
    1.上下部結構,易于取放管子 ;
    2.可編程和PID自動控制 ;
    3.金屬按鍵或觸摸屏操作界面供您選擇
    ;
    4.進口節能箱材料
    ;
    5.爐膛采用雙襯里結構,中間有間隙隔離,即使爐溫高達1600,爐體表面仍可安全觸摸;
    6.爐內裝有輸出電壓和輸出電流檢測表,可以看到實時加熱狀態  。

    技術參數:
    模型 PT-1200PECVD PT-1400PECVD PT-1700PECVD
    最高 溫度 1200 1400 1700
    工作溫度 1100 1300 1600
    加熱元件 鉬電阻絲 碳化硅 MoSi2
    熱電偶 K型  S型 B型
    管材 高純石英 氧化鋁 氧化鋁
    箱體材質 陶瓷纖維
    加熱速度 0-20
    溫度控制精度 +/- 1
    溫度均勻度 +/- 5
    額定功率 110-415V,50 / 60Hz
    等離子電源 200/300/500/1000瓦
    氣體控制 浮子流量計/質量流量計
    真空單元 旋轉葉片/擴散/渦輪分子泵
    保證 一年有限保修(保修范圍內的消耗品

    可根據客戶要求定做更多
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