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    混氣管式PECVD系統

    混氣管式PECVD系統

    混氣管式PECVD系統

    多路混氣管式PECVD系統,由單溫區管式爐、真空系統、質子流量計、射頻電源系統系統組成。 混氣管式PECVD系統是為了使化學反應能在較低的溫度下進行,利用了等離子體的活性來促進反應,環

    產品概述:

           PT -T1200-S6015LK1-4Z5S多路混氣管式PECVD系統,由單溫區管式爐、真空系統、質子流量計、射頻電源系統系統組成。 混氣管式PECVD系統是為了使化學反應能在較低的溫度下進行,利用了等離子體的活性來促進反應,環境溫度在100-300℃,但反應氣體在輝光放電等離子體中能受激分解、離解和離化,從而大大提高了反應物的活性,這些具有反應活性的中性物質很容易被吸附到較次溫度的基本表面上,發生非平衡的化學反應沉積生成薄膜,因此這種CVD稱為等離子體增強化學氣相沉積法(PECVD)。
     
     

    適用范圍:

            設備可在片狀或類似形狀樣品表面沉積SiOx、SiNx、非晶硅、微晶硅、納米硅、SiC、類金剛石等多種薄膜,并可沉積p型、n型摻雜薄膜。沉積的薄膜具有良好的均勻性、致密性、粘附性、絕緣性。廣泛應用于刀具、高精模具、硬質涂層、高端裝飾等領域。

     

     

    產品特點 :

    多晶纖維爐膛多晶纖維爐膛,節能耐腐蝕

    重量輕、升溫速度快、節能、省時、耐高溫、耐腐蝕、保溫性好,能滿足何種快速燒結的要求。
    高純石英爐管爐管采用高純度石英玻璃材料工藝加工

    具有極低的熱膨脹系數、耐高溫、化學穩定性好、電絕緣性好。
    雙層內膽爐殼雙層內膽爐殼,配有風冷系統,快速升降溫

    整個爐體采用雙層內膽式結構,中間有氣隙隔離,即使爐膛溫度高達1200℃,爐體表面仍然可以安全觸摸無滾燙感覺。
    真空法蘭法蘭采用雙環密封技術

    有效的提高了法蘭的氣氛性,法蘭上裝有多種接頭,可接電阻真空計、真空波紋管并能做成容易撤卸的鉸鏈式。
    合金電熱絲內嵌式合金電熱絲,升溫快,壽命長

    加熱元件采用優質內嵌式合金電熱絲,發熱效率高、耐高溫、抗氧化、耐腐蝕、升溫快、壽命長、高溫變形小、安裝維修方便,使用壽命長。
    微電腦PID控制器微電腦PID控制器,操作簡便

    操作簡便,控溫精確、可靠、安全多段可編程控制,可以簡化復雜的試驗過程,真正實現自動控制和運行。
    爐體配有:輸出電壓和輸出電流監測表,爐子加熱狀態一目了然了。
    高真空分子泵組真空系統采用高真空分子泵組,性能卓越

    性能可靠:整體型復合轉子,強度高、性能穩定;
    潔凈無油:采用脂潤滑精密陶瓷軸承,無油蒸汽污染。

     

     

    標準配件:

    4路質子流量計 真空系統 射頻電源

    質子流量計×1

    真空系統×1 射頻電源×1
    氣煉石英爐管 真空法蘭 熱電偶
    氣煉石英爐管×1 真空法蘭×1 防燙罩×2
    高溫手套 坩堝鉤 熱電偶
    高溫手套×1 坩堝鉗×1 熱電偶×1
    剛玉坩堝 爐塞 馬弗爐中文說明書
    剛玉坩堝×2 爐塞×2 中文說明書×1
    注:爐管、坩堝可按用戶需求選配合適的款型

    可選配件: 液晶觸摸控制儀 全自動智能型水冷機

    混氣管式高真空PECVD系統
    爐管尺寸 直徑60mm
    加熱區長度 440mm(更多規格可按照客戶要求定制)
    正常工作溫度 1100℃(可選)
    最高溫度 1200℃(最高可選1700℃)
    加熱元件 摻鉬合金加熱絲
    溫控精度 ±1℃(具有超溫及斷偶報警功能)
    爐膛材質 采用日本進口爐膛材料,不掉粉、材料保溫性能好、
    反射率高、溫場均衡,抗熱漲冷縮能力強
    控溫方式 智能化30段可編程控制(用戶可選配液晶觸摸屏顯示)
    真空系統
    高真空分子泵組,高真空復合真空計 前級泵2升每秒,分子泵600升每秒 采用KF25系列波紋管和真空擋板閥連接
    質子流量計
    高精度質量流量計可準確的控制氣體流量 氣體流量范圍為0-500SCCm 誤差為0.02% 出氣真空壓力表,內置氣體混氣系統, 不銹鋼針閥計管道,標準雙卡套接頭
    射頻電源系統
    輸出功率 50-500W最大可調±1%
    RF頻率 13.56MHz,穩定性±0.005%
    冷卻 風冷
    輸入功率 1KW AC 220V
    電氣認證 CE認證
    售后服務 12個月質保、終身保修
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